此案是去年年末韩国检方对于10名三星前员工提起公诉的贸易窃密系列案中的首起有罪宣判。

国际电子商情28日讯据韩媒报导，韩国首尔中心处所法院近日对于一路半导体技能泄露案作出一审讯决。一位56岁的三星电子前工程师全某，因向中国半导体企业泄露焦点芯片制造技能，违背韩国《财产技能掩护法》，被判处有期徒刑7年，并惩罚金2亿韩元（约合92.38万元人平易近币）。

法院审理查明，全某窃取并泄露了三星电子同步动态随机存取存储器（DRAM）制造历程中约600个具体工艺步调。涉案技能为三星电子投入约1.6万亿韩元（约合73.9亿元人平易近币）研发资金、用时五年全世界率先研发出的10纳米级DRAM最新工艺。全某于从三星电子去职后，跳槽至一家中国半导体企业，并于此历程中重要经由过程手写条记的方式，将上述要害技能信息泄露给中方。

检方指控显示，全某以提供涉案技能信息为价钱，于近6年时间里从该中国半导体企业累计赢利29亿韩元（约合1339.5万元人平易近币），此中包括合同奖励3亿韩元、价值3亿韩元的认股权等。法院于终极量刑时，将该工程师案发时于三星的薪酬偏低环境，列为了弛刑考量因素。

法院认定，被泄露的技能属在韩国 国度焦点技能 ，全某的举动严峻侵害了三星电子的焦点竞争力，也给韩国半导体财产安全造成为了庞大影响，其泄露举动让竞争敌手得到了技能先发上风。

此案是去年年末韩国检方对于10名三星前员工提起公诉的贸易窃密系列案中的首起有罪宣判。事实上，三星电子并不是初次遭受近似技能泄密事务。2025年，韩国方面曾经拘留3名前三星员工，此中包括一位高管，缘故原由是他们涉嫌将三星18纳米DRAM存储芯片技能泄露给竞争敌手。相干报导曾经估算，此类技能外泄事务仅2025年就可能已经致使三星遭遇高达5万亿韩元（约合230.95亿元人平易近币）的发卖丧失，将来数年仍可能继承造成数万亿韩元级另外潜于影响。

与此同时，技能泄露事务也存于反向案例。2024年，一位于中国事情的韩国籍工程师A某，因涉嫌向韩国泄露中国海内存储芯片秘要，被中国警方拘系。据悉，A某也曾经是三星电子芯片部分员工，自2016年起前后于多家中国芯片企业任职。

当前全世界存储芯片市场格式正于发生变化。惠普、华硕、戴尔等头部终端厂商，正思量向中国存储企业采购内存产物。焦点缘故原由是主流DRAM厂商均集中产能，优师长教师产AI加快器所需的HBM产物，通用内存呈现了较着供给缺口。

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